高円宮妃久子さまは7月23日、理工系の優れた若手研究員を表彰する「先端技術大賞」に出席されました。
久子さまが出席された「独創性を拓く 先端技術大賞」は、先端技術分野で優れた研究成果をあげた、理工系学生と企業の若手研究員を表彰するもので、今回で37回目を迎えました。
今回学生の部門のグランプリ、文部科学大臣賞を受賞したのは髙田真悟さんで、東大大学院在学中、データを保存する際などにメモリーの消費電力を軽減できる材料を研究したことが評価されました。
また、若手研究者に贈られる経済産業大臣賞はチップをパッケージに収めるチップレット集積技術とその接合技術を研究した横浜国立大学の井上史大さん、株式会社ディスコ、東レエンジニアリング株式会社が受賞しました。
式典の中で、久子さまは、若手研究者をたたえた上で、「勇気を持って試行錯誤を繰り返し、粘り強く研究開発に取り組む精神は尊く、新たに技術を生み出す先見性とそれを発展させる応用力の高さには感心させられます。改めまして、先端技術の各分野で力を尽くしてこられたみなさまに深く敬意を表する次第です。科学技術立国として、安心・安全・健康といった人びとの暮らしを守る技術が、日本から世界へ広がり、多くの分野領域に恩恵をもたらすことを願ってやみません」と述べられました。
式典後に、久子さまは受賞者から研究内容の説明を受けられました。
久子さまは「磁石が影響することは」「ヘテロジャンクションの話が多いですね」など専門的な質問していたほか「色々な所に利用できますね」などと、今後研究開発がさらに進んでいくことを楽しみにされていました。
